1.0https://www.accscicn.com/en微纳加工 | 光刻 - 光学光刻篇rich600338<blockquote class="wp-embedded-content" data-secret="BbTXvCa2eM"><a href="https://www.accscicn.com/en/solutions/nanofabrication/nanofabrication_lithography/">Micro and Nano Processing | Photolithography - Optical Lithography</a></blockquote><iframe sandbox="allow-scripts" security="restricted" src="https://www.accscicn.com/en/solutions/nanofabrication/nanofabrication_lithography/embed/#?secret=BbTXvCa2eM" width="600" height="338" title="“微纳加工 | 光刻 – 光学光刻篇” — " data-secret="BbTXvCa2eM" frameborder="0" marginwidth="0" marginheight="0" scrolling="no" class="wp-embedded-content"></iframe><script>
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</script>光学光刻使用光将图案从母版（光掩模）复制到基板上。这个过程与传统的负⽚摄影复制非常相似。将光敏聚合物（光刻胶）涂敷到基材上，然后通过光掩模曝光。曝光的光刻胶发生化学反应，导致溶解度发生变化。随后将其用于溶解部分光刻胶，留下图案化的光刻胶。有几种不同的光刻技术，例如接触、投影、浸没和⼲涉，以及基于紫外、深紫外、极紫外和X射线的方法。非光学光刻涉及电子束、离子束或机械力以在抗蚀剂膜上创建图案。它们是电子束光刻(EBL)、聚焦离子束(FIB)光刻和纳米压印光刻(NIL)。以下部分将简要介绍这些技术及其局限性。