Micronanofabrication | Lithographie - Lithographie par nano-impression

Lithographie par nano-impression (NIL)La description est très simple. Un moule (tampon) est construit avec des caractéristiques de surface en relief, puis pressé sur un matériau polymère pour transférer le motif. Le matériau polymère est généralement un film résistant sacrificiel utilisé comme masque pour graver le substrat ou le film situé en dessous.

Il existe plusieurs méthodes de NIL. La NIL par pression à chaud utilise des températures élevées pour ramollir le film polymère, ce qui lui permet de s'écouler et de se remplir autour du relief de la surface, qui est éliminé lorsque le tampon est refroidi à la température ambiante.Cette technique est également connue sous le nom de lithographie par gaufrage à chaud.

Une autre variante utilise la lumière UV pour réticuler et durcir les films polymères. Un film liquide souple est utilisé et le film est exposé à la lumière UV pendant le processus d'impression. Cette méthode peut également être utilisée en combinaison avec des températures élevées. Le procédé UV-NIL exige que le substrat et/ou l'impression soient transparents aux ondes UV (par exemple, le pérylène).

Le principal avantage de la NIL est l'extrême simplicité du processus. Il n'y a pas d'optiques coûteuses, de chambres à ultra-vide, de faisceaux d'électrons ou de lasers à excimères. Une fois que le film de réserve a été modelé par photolithographie, un processus chimique est utilisé pour transférer le motif sur le substrat ou le film situé en dessous. C'est le processus de transfert du motif. Il n'y a pas non plus de limite de résolution de base pour la taille des caractéristiques.

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