ナノインプリント(NIL)

マイクロ・ナノ加工とナノインプリント技術において10年以上の経験を持つAccSciは、プロセスにおける時間、トラブル、労力を節約し、コストのかかる無駄を省き、生産プロセス全体の効率と効果を最適化することが可能です。

100以上の学校・企業に選ばれています

ナノインプリント(Nil)とは何ですか?

ナノインプリントリソグラフィー(NIL)は、ナノスケールのパターンを作成するマイクロ・ナノプロセスである。高分子構造体の加工方法として最も一般的なものです。持つことでローコスト, ,工期が短い, ,高い生産性, ,高解像度などのメリットがあります。

成熟し、一般的に使用されている主なナノインプリント技術プロセスは以下の通りです。サーマル・ナノインプリント(T-NIL)技術, ,UV-NIL(Ultraviolet Light Curing Imprinting)技術。マイクロコンタクト印刷( μCP)です。

私たちの能力

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プロセス

リトグラフ

電子ビーム描画装置(EBL: Electron Beam Lithography)UVリソグラフィープロキシミティ/コンタクトリソグラフィ、ステッパーリソグラフィなど。

プロセス

二光子3Dプリンター(二光子重合法)

集束イオンビームエッチング深部反応性イオンエッチング、誘導結合プラズマエッチング、イオンビームスパッタリングエッチングなど。

ナノサーマルエンボス、UV硬化型エンボス、マイクロコンタクトプリンティング(ソフトエッチング)

マグネトロンスパッタリングatomic layer depositionの略。イオンビームスパッタリング, ,プラズマ化学気相成長法 など

ナノインプリント材料

リトグラフ材料

インプリントされたステンシル素材

シリコンNILスタンプ、溶融シリカNILスタンプ、ニッケルSHIM、高分子NILスタンプ、PDMS NILスタンプ

ナノインプリント材料

基板材料

サファイア、石英、シリコン(Si)、ニッケル(Ni)、ポリジメチルシロキサン(PDMS)、ガリウムヒ素(GaAs)、リン化インジウム(InP)、窒化ガリウム(GaN)、チタン(Ti)、金(Au)、ポリエチレン(PE)などの基板を含む
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ナノインプリントの事例

マイクロ・ナノ構造

回折光学素子(DOE)

マイクロ・ナノ構造

スーパーレンズ(METALENSES)

マイクロナノアーキテクチャ

マイクロレンズアレイ

生産工程

1.初回特典

図面やご要望を開発担当者にお送りいただき、初期見積りを行います。

2.プログラムの識別

図面や要望をもとに、提案書や見積書を最適化し、最終決定します

3.生産・品質管理

お客様の製品に最適な機器を選定し、当社の基準を満たすよう全責任を負います

4.予定通りの納品

納期を守ってお届けします

テストキャラクタリゼーション

テストツール

光学顕微鏡(マイクロスコープ)

テストツール

プロフィロメーター

テストツール

シート抵抗の測定

テストツール

ホール測定 ホール測定)

当社の強み

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メリット

フルプロセスカバレッジ

100um~5nmのさまざまな加工技術を蓄積し、国内の多くの実験と連携。

メリット

高水準の品質管理

6sigmaサービスの精神に基づき、最適な実験プラットフォーム、プロセス、人材、材料を選択し、加工を行う

メリット

迅速な対応

アイデアから実装まで、専門家が専門的なアドバイスを提供し、継続的にトラッキングサービス内容

メリット

時間や心配を減らす

原理の実現、図面設計、原料調達から製品加工までのターンキーサービス。

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