フォトリソグラフィー

10年にわたるマイクロ/ナノの経験を持つ当社の高度なマイクロ/ナノ処理ソリューションは、マイクロ/ナノの製造プロセス全体を通して時間、労力、エネルギーを確実に節約し、大幅なコストの無駄を削減し、生産全体の効率と効果を最適化することができます。

100以上の学校・企業に選ばれています

フォトリソグラフィーとは

フォトリソグラフィーは、薄膜や基板(ウェハー)上に部品をパターン化する精密なプロセスです。フォトリソグラフィーは、光を用いて、フォトマスク(「フォトマスク」とも呼ばれる)から、基板上の感光性(すなわち感光性)化学フォトレジストに形状を転写する。

私たちの能力

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フォトリソグラフィー

コンタクトと近接リトグラフ

最小グラフィックサイズ:1μm、オーバーレイ精度:±0.5μm

フォトリソグラフィー

レーザーダイレクトライティング
(レーザー直接描画)

フェムトセカンドレーザー、2光子重合 3Dプリンター。最小グラフィックサイズ0.3um、オーバーレイ精度:±0.5um。

フォトリソグラフィー

ステッパーリソグラフィー
(ステッパーリソグラフィー)

最小グラフィックサイズ:200nm、見当精度≤0.15μm(X,Y)、露光範囲<22*22mm、サポート8インチ

フォトリソグラフィー

電子ビーム描画装置(EBL: Electron Beam Lithography)

最小パターンサイズ:10nm、レジストレーション精度:40nm、露光範囲<直径100mm

フォトリソグラフィー

スキャニングリソグラフィー
(スキャニングリソグラフィー)

投影比率1:5、最小グラフィックサイズ:0.35μm、オーバーレイ精度≦0.15μm(X、Y)、露光範囲<22*22mm

フォトリソグラフィー

イオンビームリソグラフィー
(イオンビームリソグラフィー)

最小グラフィックサイズ:1μm、オーバーレイ精度:±0.5μm

リトグラフ材料

リトグラフ材料

一般的な基板材料

シリコンウエハー、ガラス、サファイア、フレキシブル材料、GaAsなど。

リトグラフ材料

基板サイズ

2、4、6、8インチ、不定形小片

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生産工程

1.初回特典

図面やご要望を開発担当者にお送りいただき、初期見積りを行います。

2.プログラムの識別

図面や要望をもとに、提案書や見積書を最適化し、最終決定します

3.生産・品質管理

お客様の製品に最適な機器を選定し、当社の基準を満たすよう全責任を負います

4.予定通りの納品

納期を守ってお届けします

品質テスト

テストツール

光学顕微鏡(マイクロスコープ)

テストツール

プロフィロメーター

テストツール

シート抵抗の測定

テストツール

ホール測定 ホール測定)

これまでに担当したケース

マイクロ・ナノ構造

回折光学素子(DOE)

マイクロ・ナノ構造

スーパーレンズ(METALENSES)

マイクロナノアーキテクチャ

マイクロレンズアレイ

応用分野

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マイクロ・ナノアプリケーション

マイクロレンズアレイ

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マイクロ・ナノアプリケーション

リニアグリッド偏光板

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マイクロ・ナノアプリケーション

センサー

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マイクロ・ナノアプリケーション

フレキシブルエレクトロニクス

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マイクロ・ナノアプリケーション

反射防止フィルム

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マイクロ・ナノアプリケーション

有機ELパネル

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マイクロ・ナノアプリケーション

マイクロ流体チャンネル/チップ

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マイクロ・ナノアプリケーション

AR光導波路

当社の強み

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メリット

フルプロセスカバレッジ

100um~5nmのさまざまな加工技術を蓄積し、国内の多くの実験と連携。

メリット

高水準の品質管理

6sigmaサービスの精神に基づき、最適な実験プラットフォーム、プロセス、人材、材料を選択し、加工を行う

メリット

迅速な対応

アイデアから実装まで、専門家が専門的なアドバイスを提供し、継続的にトラッキングサービス内容

メリット

時間や心配を減らす

原理の実現、図面設計、原料調達から製品加工までのターンキーサービス。

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