App_Nanofabrication

微纳加工 | 光刻-光学光刻篇 在纳米和微加工技术的背景下，光刻用于在基板表面上应用图案，以便随后将其转移到下 […]

Микронанопроизводство | Травление После нанесения рисунка на резистную пленку методом фотолитографии используется химический процесс для переноса рисунка на подложку или пленку, расположенную ниже. Это называется переносом рисунка

Получение тонких пленок - эпитаксия Большинство материалов существует в аморфном, кристаллическом или поликристаллическом состоянии. Их механические, оптические, тепловые и электрические свойства также зависят от их состояния.

Химические методы позволяют создавать пленки с превосходной однородностью, покрытием и стехиометрическими соотношениями, но для этого требуются различные газы, и в некоторых случаях каждая пленка имеет свои уникальные характеристики.

Подготовка тонких пленок - PVD До сих пор наиболее распространенными физическими методами были испарение и напыление. Оба эти метода являются твердофазными, при которых исходный материал переносится на подложку один за другим in situ.