ソリューション - マイクロ・ナノ加工

マイクロ・ナノ加工｜基板｜光電子デバイスでよく使われる基板 シリコンは、集積回路の標準的な材料として使用されており、世界で最も広く研究されている材料の一つです。この材料は、高温半導体としての使用に適しており、成長しやすい酸化物絶縁体である。これらの特性は、現在の産業インフラや金型とともに、集積シリコン光 [...]...

マイクロナノ加工｜電子ペーパーマイクロカップマイクロコンパートメント型構造準備 現在のエネルギー危機のために、精力的に省エネと排出削減技術の経済モデルを開発することが急務であり、環境に優しく、省エネの新世代のハイテクディスプレイ製品になることが期待されている。電子情報産業がますます急速に発展し、集積回路、コンピュータ、フラットパネル・ディスプレイ産業が相次いで発展している。

マイクロナノプロセッシング｜AIEポリマー発光デバイスの作製 マイクロナノ発光デバイスは、集積光学系の開発において重要な役割を果たしている：有機レーザーや電子ディスプレイの分野でのアプリケーションのための大きな見通しで光利得材料、圧力や化学物質に応答する発光材料は、センサーとして使用することができます。

マイクロナノプロセッシング|タンパク質ベースのマイクロナノデバイスチップ作製 近年、携帯機器の発展により、人々は電子デバイスの柔軟性に注目している。人々は、電子デバイスの柔軟性により注目している。特に、インターネット時代を契機としたウェアラブルデバイスの波では、フレキシブルな電子デバイスが期待されている。このような背景から、タンパク質材料は柔軟性に優れているだけでなく、生体適合性にも優れている。

マイクロプロセッシング｜マイクロ流体チップ マイクロ流体チップは、単一細胞の分解能で生物システムを研究するための強力なツールとなっている。一方、マイクロ流体チップは、微小液滴の生成、マイクロ流体拡散ふるい分け、タンパク質-リガンド相互作用の検出などの操作だけでなく、生化学における分子アッセイの実現にも広く利用することができる。マイクロ・ナノ

マイクロ・ナノ構造/MEMSファウンドリープラットフォームの技術能力 研究所プラットフォームは、主要設備（40セット以上）を含む合計200以上の設備を持っています： - グラフィックス装置 電子ビーム露光、レーザー直接描画、デスクトップコンタクトリソグラフィ、デスクトップリソグラフィなど - 薄膜成膜装置 ICP-PECVD、LPCVD。

UV-LIGA電鋳｜メタルアレイステンシルの製造 現在、微細なメタルステンシルの主なプロセス技術は、フォトリソグラフィー-エッチング法、レーザー加工法、フォトリソグラフィー-電鋳法である。フォトリソグラフィ-エッチング法のプロセスの主体として化学的または電気化学的溶解は、高い処理効率、滑らかな構造表面であるが、金属の等方性エッチング挙動によって製造することが困難である制限される。