ソリューション - マイクロ・ナノ加工

マイクロ・ナノ加工|光デバイス用材料

マイクロ・ナノ加工|基板|光電子デバイスでよく使われる基板 シリコンは、集積回路の標準的な材料として使用されており、世界で最も広く研究されている材料の一つです。この材料は、高温半導体として使用するのに適しており、酸化物絶縁材料として容易に成長させることができます。このような特性を持ち、現在の産業インフラや工具をすべて備えているため、集積化されたシリコンの光学的...

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マイクロ・ナノ加工|MEMS研究の方向性

マイクロ・ナノプロセス|MEMS研究の方向性分類 MEMS研究は、主に基礎理論、マイクロ・ナノプロセス、マイクロ・ナノデバイス、マイクロ・ナノテスト、マイクロ・ナノシステム、マイクロパッケージングを含む多くの研究分野をカバーする、より完全なシステムを形成しています。 現在のMEMS研究は、以下の4つの大きな方向性に分けられます。 マイクロエネルギー ポータブル電子機器の急速な発展により、MEMSは、より多くの人々に、より高度な技術を提供できるようになりました。

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マイクロ・ナノ加工|MEMS マイクロエネルギーシステムプレパレーション

マイクロナノプロセッシング|MEMSマイクロエネルギーデバイスシステム準備 マイクロマシン技術レベル、マイクロエレクトロニクス技術レベルの向上に伴い、MEMSシステムは大きく発展してきました。一般的なエネルギー駆動デバイスの欠点である、大型、低エネルギー密度、短寿命の制限を受け、エネルギー駆動デバイスであるマイクロエネルギーデバイスが徐々に注目され、M ...

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マイクロナノプロセッシング|電子ペーパー製マイクロカップとマイクロチャンバー構造の作成

マイクロナノプロセッシング|電子ペーパー マイクロカップ マイクロチャンバー型構造準備 現在直面しているエネルギー危機に対して、省エネ・排出削減技術の開発は経済モデルとして急務であり、環境に優しい省エネハイテクディスプレイの新世代の製品として期待されています。電子情報産業の急速な発展に伴い、集積回路、コンピュータ、フラットパネルディスプレイなどの産業が発展してきました。

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マイクロ・ナノ加工|高分子発光デバイスの作製

マイクロ・ナノファブリケーション|AIE ポリマー発光デバイスのファブリケーション マイクロ・ナノ発光デバイスは、集積光学系の開発において重要な役割を果たします。例えば、光利得材料は有機レーザーや電子ディスプレイに大きな期待を寄せ、圧力や化学物質に反応する発光材料はセンサーとして使用できます。さらに、異なる発光材料を使って、...

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マイクロ・ナノ加工|タンパク質マイクロ・ナノ構造の細胞パターニング

マイクロナノプロセッシング|タンパク質を用いたマイクロナノデバイスチップの作製 近年、携帯端末の発達により。人々は電子デバイスの柔軟性に注目するようになりました。特に、インターネット時代を契機としたウェアラブルデバイスの波では、人々は柔軟な電子デバイスに期待しています。このような背景から、タンパク質材料は、非常に柔らかいだけでなく、生体適合性にも優れている ...

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マイクロ・ナノプロセッシング|マイクロ流体チップ

微細加工|マイクロ流体チップ マイクロ流体チップは、生体系を単一細胞の分解能で研究するための強力なツールとなっています。同時に、マイクロ流体チップは、微小液滴の生成、マイクロ流体拡散篩、タンパク質-リガンド相互作用の検出などの操作だけでなく、生化学における分子アッセイの実施にも広く使用されています。マイクロ&ナノ ...

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MEMSファウンドリー機能|フォトリソグラフィープレーティングエッチングコーティング

マイクロ・ナノ構造/MEMSファウンドリープラットフォームの技術力 実験室プラットフォームには合計200セット以上の設備があり、そのうち主な設備(40セット以上)は以下の通りです: - グラフィック設備 電子ビーム露光、レーザー直描、デスクトップ接触リソグラフィー、デスクトップリソグラフィーなど - 薄膜蒸着設備 ICP-PECVD, LPCVD ...。

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UV-LIGA電鋳|大面積・高空隙率のファインメタルメッシュパネルの作製

UV-LIGA電鋳|メタルアレイステンシルの作製 現在、微細なメタルステンシルの作製には、フォトリソグラフィー-エッチング、レーザー加工、フォトリソグラフィー-電鋳が主なプロセス技術としてあげられます。フォトリソグラフィー-エッチング法は、主に化学的または電気化学的な溶解に基づくもので、高効率で滑らかな表面を持つが、金属の等方的なエッチング挙動に制限され、製造が困難である ...

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