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微纳加工 | MEMS精细加工(二) 微细加工技术是实现微机电系统的基础,也是微机电系统的核心技术和研究热点。微细加工技术在微电子、微光学、微流控芯片、蛋白及细胞阵列化等领域也有广泛应用。 微细加工技术泛指制作微小尺寸器 […]

マイクロ・ナノファブリケーション｜MEMS加工入門（I） マイクロシステム、マイクロエレクトロメカニカルシステム、マイクロマシン。

マイクロナノプロセス｜ウェット洗浄処理入門 ICの製造工程では、有機試薬や無機試薬の一部が工程完了に参加する必要があります。 また、製造工程は常にクリーンルーム内で人手を介して行われるため、ウェハーに対する様々な環境汚染物質の発生が避けられません。汚染物質の発生状況によって、パーティクル、有機物、無機物に大別される。

マイクロ・ナノ加工｜電解メッキ入門 電解メッキとは、金属や合金を基材の表面に電解析出させ、均質で緻密、かつ密着性の高い金属層を形成することです。CVD、PVD、その他の薄膜蒸着技術と比べ、電解めっきは金属の電解析出原理を利用し、複雑で特殊な形状のデバイスを正確に再現することができます。

マイクロナノプロセッシング｜ドライエッチングプロセスの紹介 エッチング技術は、ウェットエッチングとドライエッチングに分けられる ウェットエッチングは、化学エッチングと電解エッチングに分けられる ドライエッチングは、プラズマエッチング、イオンビームスパッタリングエッチング、反応性イオンエッチングに分けられる ドライエッチングは、薄膜エッチング技術のプラズマ化学的に活性な性質を使用しています。 ルート

マイクロ・ナノプロセス｜薄膜成膜プロセス入門 目次 薄膜成膜（コーティング）とは？ 薄膜蒸着（コーティング）とは、基材上に薄膜の皮膜を形成し、堆積させるプロセスです。 基材上に様々な材料の薄膜を堆積させることは、マイクロ・ナノ加工の最も重要な手段の一つであり、薄膜は基材の特性を変化させたり、改善したりするために使用できる様々な特性を持っています。

ナノファブリケーション｜薄膜、リソグラフィー、エッチング 概要 ナノファブリケーションは、薄膜、リソグラフィー、エッチングの3つの分野に分けられる。 薄膜では、蒸着法、スパッタリング法、低圧CVD、プラズマエンハンストCVD、原子層堆積法（CVD）などの物理的蒸着法、パルスレーザーや化学的蒸着法が用いられる。

マイクロ・ナノ加工｜リソグラフィ - ナノインプリント・リソグラフィ ナノインプリント・リソグラフィ（NIL）の説明は非常に簡単です。表面の浮き彫り形状でモールド（スタンプ）を作り、それをポリマー材料に押し付けてパターンを転写します。

マイクロ・ナノ加工｜リソグラフィ - Fib集束イオンビームリソグラフィ マスクレス、レジストレスのスキャニングリソグラフィ技術です。EBLとよく似ていますが、パターンの描画に電子ビームではなくイオンビームを使用する点が異なります。また、ビームはレジストを露光するために使用されるのではなく、ビームが直接スパッタリングして基板（またはフィルム）を除去する。

マイクロ・ナノ加工｜リソグラフィ - 電子線リソグラフィ 非光学リソグラフィ法の中で、最も一般的に使用されているのが電子線リソグラフィである。フォトンではなく電子ビームを使用してレジストを露光し、化学変化を誘発する。しかし、フォトリソグラフィとは異なり、マスクはなく、ビームはレジストを照射しない。