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Nanoimpression (NIL)
AccSci a plus de 10 ans d'expérience dans la micro et nano-fabrication et la technologie de nanoimpression, et peut donc vous aider à économiser du temps, des difficultés et des efforts au cours du processus, à réduire de nombreux coûts inutiles et à optimiser l'efficacité et l'efficience globales du processus de production.
Qu'est-ce que la nano-impression (Nil) ?
La lithographie par nano-impression (LNI) est un procédé de micro- et nanofabrication qui produit des motifs à l'échelle nanométrique.Il s'agit de la méthode la plus couramment utilisée pour traiter les structures polymères. Possèdestructure simpleetcourte période de constructionetrendement élevéethaute résolutionet d'autres avantages.
Les principaux procédés technologiques de nanoimpression, arrivés à maturité et couramment utilisés, sont les suivants :Technologie de nano-impression thermique (T-NIL)etTechnologie UV-NIL,ancien État chinois situé près de l'actuelle ville de Chongqingl'impression par contact( μCP).
Nos compétences
Traitement
Lithographie
Lithographie par faisceau d'électrons (EBL)Lithographie UV,Lithographie de proximité/contact, lithographie par étapes, etc.
Traitement
Polymérisation à deux photons (impression 3D à deux photons)
Traitement
Gravure
Gravure par faisceau d'ions focalisésGravure ionique réactive profonde, gravure par plasma à couplage inductif, gravure par pulvérisation d'un faisceau d'ions, etc.
Impression nano-thermique, impression UV, impression par micro-contact (soft etching)
Traitement
Revêtement
pulvérisation magnétronDépôt de couches atomiques,pulvérisation par faisceau d'ionsetDépôt chimique en phase vapeur par plasma, etc.
Traitement
Électroformage (LIGA)
Matériaux nano-imprimés
matériel de lithographie
Matériau pour pochoir de gaufrage
Tampons NIL en silicium, tampons NIL en silice fondue, SHIM en nickel, tampons NIL en polymère, masques PDMS
Matériaux nano-imprimés
substrat
Matériaux de substrat tels que le saphir, le quartz, le silicium (Si), le nickel (Ni), le polydiméthylsiloxane (PDMS), l'arséniure de gallium (GaAs), le phosphure d'indium (InP), le nitrure de gallium (GaN), le titane (Ti), l'or (Au), le polyéthylène (PE), etc.
Le cas de la nanoimpression
nanostructure
Éléments optiques diffractifs (DOE)
nanostructure
Superlentilles (METALENSES)
micronalyse
réseau de microlentilles
processus de production
1. l'offre préliminaire
Envoyez vos dessins et vos exigences à notre responsable du développement pour obtenir un premier devis.
2. l'identification du programme
Sur la base des dessins et des exigences, nous optimisons et déterminons la proposition et le devis.
3. la production et le contrôle de la qualité
Nous sélectionnerons le meilleur équipement pour votre produit et nous assumerons l'entière responsabilité de la fabrication de votre produit selon nos normes.
4. livraison dans les délais
Livrer le produit à temps
caractérisation des essais
Moyens de détection
Microscope optique (Microscopie)
Moyens de détection
Profilomètre (Contouring)
Moyens de détection
Mesure de la résistance de la feuille
Moyens de détection
Mesure de Hall )
Nos avantages
tranchant
Couverture complète du processus
Coopération avec un certain nombre d'expériences nationales, avec des réserves de technologies de traitement différentes de 100um-5nm
tranchant
Contrôle de qualité de haut niveau
Nous respectons l'esprit du service 6sigma, en sélectionnant la plate-forme expérimentale, la technologie, le personnel et les matériaux les plus appropriés pour le traitement.
tranchant
réponse rapide
De l'idée à l'atterrissage, nos experts fourniront des conseils avisés et continueront àhanterservice
tranchant
gagner du temps et s'épargner des soucis
Service clé en main, de la réalisation du principe à la conception des dessins, de l'approvisionnement en matières premières à la transformation du produit fini.
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